DML：
DML設計は、直接変調の安定した動作のために導波路に回折格子を備えた分散フィードバック構造で構成されており、「分散フィードバック」レーザーのDFBとも呼ばれます。DMLレーザーの場合、変調速度と伝送距離は、レーザーのスペクトル線幅によって異なります。実際、線幅が狭いほど、変調速度（データレート）が高くなり、距離が長くなります。
基本的に、「1」と「0」のシーケンスは、注入電流を変調することによって光信号に配置されます。これは、オン/オフの電気信号のようなものです。したがって、DMLの設計では、レーザーを「オン」にして「1」を生成するか「オフ」にして「0」を生成することにより、電流が光信号を直接変調する必要があります。この変調された注入電流は、外部ICによって生成され、レーザーに適用されて光出力を生成します。
しかし、直接変調は、屈折率などのレーザー特性を変化させ、大きな波長分散をもたらします。DMLのパフォーマンスは、リーチが長くなると低下します（>10km）EMLと比較した場合、色分散が大きく、周波数応答が低く、消光比が比較的低いため。
DML自体はシングルチップであり、操作のためのより単純な電気回路レイアウトを提供します。したがって、よりコンパクトな設計と低消費電力を実現します。
EML：
EMLは、単一チップ内に統合された電気吸収変調器またはEAMと呼ばれる外部変調器と統合されたレーザーです。
構造はDMLと同じです。ただし、DMLとは異なり、EMLの信号変調は電気側ではなくEMA側にあります。これは、電気信号が連続的な光信号を生成し、オン/オフの電気信号が光信号を変調するEAMに適用されることを意味します。
DML設計とは対照的に、EML設計ではレーザーが直接変調されないため、レーザーの特性が変わらないという利点があります。EMLは、波長分散が小さく、高速動作で波長が安定しているため、高速で長距離の伝送を行うアプリケーションで有利です。
EML設計では、動作するためにより多くの電力と、より複雑な電気的レイアウトが必要になります。